发明名称 |
一种在透射电镜中通过电子束诱导液相沉积制备SiCx纳米材料的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种在透射电镜中通过电子束诱导液相沉积(LP-EBID)制备SiCx多元素纳米材料的方法。将SiCl4在有机溶剂中的溶液作为液体前驱体装载到液体样品池内,然后,聚焦电子束轰击前驱体,前驱体分解,使得多元素SiCx纳米材料在Si3N4薄膜窗口上进行可控沉积。透射电镜具有很高的原位空间成像分辨率,可对材料的电子束诱导沉积(EBID)过程进行原位监控观察。此外,本发明可用于可控制备不同形状、多元素的纳米材料,以及用于制备纳米器件的核心材料。 |
申请公布号 |
CN103498133A |
申请公布日期 |
2014.01.08 |
申请号 |
CN201310436483.5 |
申请日期 |
2013.09.23 |
申请人 |
华东理工大学 |
发明人 |
陈新;缪晓莉 |
分类号 |
C23C18/12(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
主分类号 |
C23C18/12(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种在透射电镜中通过电子束诱导液相沉积可控制备SiCx纳米材料的方法。 |
地址 |
200237 上海市徐汇区梅陇路130号 |