发明名称 一种在透射电镜中通过电子束诱导液相沉积制备SiCx纳米材料的方法
摘要 本发明公开了一种在透射电镜中通过电子束诱导液相沉积(LP-EBID)制备SiCx多元素纳米材料的方法。将SiCl4在有机溶剂中的溶液作为液体前驱体装载到液体样品池内,然后,聚焦电子束轰击前驱体,前驱体分解,使得多元素SiCx纳米材料在Si3N4薄膜窗口上进行可控沉积。透射电镜具有很高的原位空间成像分辨率,可对材料的电子束诱导沉积(EBID)过程进行原位监控观察。此外,本发明可用于可控制备不同形状、多元素的纳米材料,以及用于制备纳米器件的核心材料。
申请公布号 CN103498133A 申请公布日期 2014.01.08
申请号 CN201310436483.5 申请日期 2013.09.23
申请人 华东理工大学 发明人 陈新;缪晓莉
分类号 C23C18/12(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C23C18/12(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种在透射电镜中通过电子束诱导液相沉积可控制备SiCx纳米材料的方法。
地址 200237 上海市徐汇区梅陇路130号