发明名称 |
悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板 |
摘要 |
本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水,磨粒满足下述条件(a)或(b)中的至少任意一个。(a)在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时,在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。(b)在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中,使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时,在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。 |
申请公布号 |
CN103497733A |
申请公布日期 |
2014.01.08 |
申请号 |
CN201310335723.2 |
申请日期 |
2011.11.21 |
申请人 |
日立化成株式会社 |
发明人 |
岩野友洋;成田武宪;龙崎大介 |
分类号 |
C09K3/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01)I |
代理机构 |
上海市华诚律师事务所 31210 |
代理人 |
杜娟 |
主权项 |
一种悬浮液,含有磨粒和水,其中,所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物,且,在所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒,是使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的物质,且,在所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒,是使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上的物质。 |
地址 |
日本国东京都千代田区丸之内一丁目9番2号 |