发明名称 | 悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板 | ||
摘要 | 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水,磨粒满足下述条件(a)或(b)中的至少任意一个。(a)在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时,在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。(b)在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中,使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时,在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。 | ||
申请公布号 | CN103497732A | 申请公布日期 | 2014.01.08 |
申请号 | CN201310335499.7 | 申请日期 | 2011.11.21 |
申请人 | 日立化成株式会社 | 发明人 | 岩野友洋;成田武宪;龙崎大介 |
分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 杜娟 |
主权项 | 一种悬浮液,含有磨粒和水,其中,所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物,且,在所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒,是使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的物质,且,在所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒,是使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上的物质,所述磨粒的平均二次粒径为1~200nm。 | ||
地址 | 日本东京都千代田区丸之内一丁目9番2号 |