发明名称 反应沉积工艺的气体系统
摘要 本发明描述了被配置成用于具有多个间隔开的坩埚120的反应沉积工艺的气体喷枪单元,其中在所述坩埚之间提供间隔。气体喷枪单元包括气体导管130和冷凝液导向元件140,所述气体导管130具有用于为反应沉积工艺提供气体4的一个或多个出口30,所述冷凝液导向元件140用于导向尤其是铝冷凝液的冷凝液至间隔之上的一个或多个位置。
申请公布号 CN103502502A 申请公布日期 2014.01.08
申请号 CN201180070470.X 申请日期 2011.04.29
申请人 应用材料公司 发明人 G·霍夫曼;A·沃尔夫
分类号 C23C14/00(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/00(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 高见
主权项 一种被配置成用于具有多个间隔开的坩埚(120)的反应沉积工艺的气体喷枪单元,其中在所述坩埚之间提供间隔,所述气体喷枪单元包含:气体导管(130),具有一个或多个出口(30),用于为所述反应沉积工艺提供气体(4);以及冷凝液导向元件(140),用于导向尤其是铝冷凝液的冷凝液至所述间隔之上的一个或多个位置。
地址 美国加利福尼亚州