发明名称 |
Device and method for contactless contacting of conductive structures, particularly thin film transistor liquid crystal displays |
摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Erzeugung eines, für eine Inspektion von mindestens einer auf einem Substrat (1) ausgebildeten leitfähigen Struktur (3) erforderlichen, elektrischen Feldes in dem Substrat (1). Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass das Feld durch mechanisch kontaktlose Anregungen der leitfähigen Struktur (3) erzeugt ist bzw. wird. Auf diese Weise kann eine Inspektion ebenso bei Substraten (1) ausgeführt werden, bei denen eine leitfähige Struktur (3) nicht herkömmlich mechanisch ankontaktierbar ist. Erfindungsgemäß ist eine Inspektion bei allen Herstellungsverfahrensstadien von derartigen Substraten (3) ausführbar.
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申请公布号 |
EP2138856(A3) |
申请公布日期 |
2014.01.08 |
申请号 |
EP20080164807 |
申请日期 |
2008.09.22 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
KLAUSMANN, HAGEN;KRAGLER, KARL |
分类号 |
G01R31/312;G09G3/00 |
主分类号 |
G01R31/312 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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