发明名称 |
导电性抗反射薄膜 |
摘要 |
本发明涉及一种对具有所需纹理的高分子基板施加透明导电性薄膜的方法。此方法包括如下步骤:提供具有内部配置纹理的高分子材料,并且将透明导电性材料同形地施加于模制的高分子材料,以在其上产生同形的透明导电性薄膜。该同形的透明导电性薄膜所具有的纹理与高分子材料的纹理相对应,并且具有不大于可见光波长的周期,因此该同形的透明导电性薄膜是抗反射的。 |
申请公布号 |
CN103502503A |
申请公布日期 |
2014.01.08 |
申请号 |
CN201280022101.8 |
申请日期 |
2012.05.17 |
申请人 |
麦克德米德影印有限公司 |
发明人 |
G·J·哈伯德;K·P·帕森斯;T·N·怀特 |
分类号 |
C23C14/08(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;H01L31/0236(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 11216 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
一种对具有纹理的高分子基板施加透明导电性薄膜的方法,此方法包含如下步骤:a)提供内部配置有纹理的高分子材料;以及b)将透明导电性材料同形地施加于该高分子材料,以在其上产生同形的透明导电性薄膜;其中该同形的透明导电性薄膜所具有的纹理与该高分子材料的纹理相对应,并且其中该纹理具有不大于可见光波长的周期,因此该同形的透明导电性薄膜是抗反射的。 |
地址 |
英国牛津郡 |