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Flüssigkristallanzeige-Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben. Die Flüssigkristallanzeige-Vorrichtung weist auf: ein erstes Substrat (101) und ein zweites Substrat (141); eine Mehrzahl von Gateleitungen (105A, 105B), die auf dem ersten Substrat (101) ausgerichtet sind; eine Gateisolierungsschicht (111); eine Datenleitung (117a) und eine gemeinsame Leitung (117b), die auf der Gateisolierungsschicht (111) ausgebildet sind; eine große Pixelelektrode (103a), die in jedem Pixelbereich angeordnet ist; ein Dünnfilmtransistor (TFT), der an einem Kreuzungspunkt zwischen jeder der Gateleitungen (105A, 105B) und der Datenleitung (117a) angeordnet ist; eine hervorstehende Struktur (117c), die auf der Gateleitung (105A) ausgebildet ist und die zu dem gebogenen Teilbereich (117f-2) der Drainelektrode (117f) korrespondiert; eine Passivierungsschicht (123); eine Mehrzahl von abzweigenden gemeinsamen Elektroden (129a), die auf der Passivierungsschicht (123) ausgebildet sind; eine Pixelelektrodenverbindungsstruktur (129b), die auf der Passivierungsschicht (123) ausgebildet ist; eine schwarze Matrix (143) und eine Farbfilterschicht (145), die auf dem zweiten Substrat (141) ausgebildet sind; einen Säulenabstandshalter (147), der auf dem zweiten Substrat (141) ausgebildet ist; und eine Flüssigkristallschicht (151), die zwischen dem ersten Substrat (101) und dem zweiten Substrat (141) angeordnet ist. |
