| 摘要 |
Vorrichtung zur nasschemischen Behandlung von Substraten mit einer Behandlungsflüssigkeit (F) unter Bildung von aus der Behandlungsflüssigkeit (F) austretenden Gasen (G), umfassend ein doppelwandig ausgestaltetes und austauschbares Behandlungsbecken (1), dessen Außenwand (2) und Innenwand (3) unter Ausbildung eines Zwischenraumes (4) voneinander beabstandet sind, und einen unterhalb des Behandlungsbeckens (1) angeordneten Behälter zum Auffangen (5) der aus dem Behandlungsbecken (1) ausgetretenen Gase (G) und/oder Behandlungsflüssigkeit (F), die durch den Zwischenraum (4) in den Behälter zum Auffangen (5) ableitbar sind, sowie eine im Übergangsbereich zwischen der Außenwand (2) des Behandlungsbeckens (1) und dem Behälter zum Auffangen (5) vorgesehene Dichtung (9) zum Abschirmen der Gase (G) und/oder Behandlungsflüssigkeit (F) gegenüber der Umgebung (U), wobei die Dichtung (9) eine flüssigkeitsbasierte Dichtung ist, deren Ausbildung durch Bereitstellung eines Flüssigkeits-Aufnahmevolumens (F1; F2) im Übergangsbereich ermöglicht ist. |
