发明名称 | 曝光系统及方法 | ||
摘要 | 一种曝光系统,包括一补偿单元与一曝光装置。补偿单元接收相应至少一种机台参数之调整值,依据调整值与对应此机台参数之调整公式对于相应之对准参数进行补偿。曝光装置使用补值后之对准参数对于晶圆进行对准与曝光作业。 | ||
申请公布号 | TW200422782 | 申请公布日期 | 2004.11.01 |
申请号 | TW092110136 | 申请日期 | 2003.04.30 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 郭荣治 |
分类号 | G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 代理人 | 洪澄文;颜锦顺 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路六六九号 |