在矽化制程中选择性移除层之清洗溶液及方法

摘要

本发明揭示一种清洗溶液可选择性移除一氮化钛层及一未反应金属层。清洗溶液包括一酸性溶液及一含碘氧化剂。清洗溶液也可有效地移除一光阻层及有机物。此外由于能改良装置操作特征，所以清洗溶液能用在引人注目的钨闸极技术中。