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发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要
申请公布号 TWI421976 申请公布日期 2014.01.01
申请号 TW098130245 申请日期 2009.09.08
申请人 芝浦机械电子装置股份有限公司 日本 发明人 小暮公男
分类号 H01L21/683 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本
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