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发明名称 光阻底层膜形成方法及使用于其之光阻底层膜用组成物与图型形成方法
摘要
申请公布号 TWI421640 申请公布日期 2014.01.01
申请号 TW096136034 申请日期 2007.09.27
申请人 ＪＳＲ股份有限公司 日本 发明人 今野洋助;能村仲笃;丰川郁宏;杉田光
分类号 G03F7/11;G03F7/16;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本
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