发明名称 |
一种在线监测离子损伤的方法 |
摘要 |
本发明提供一种在线监测离子损伤的方法,属于半导体制造技术领域。该方法包括以下步骤:在晶圆上生成介质层以制备形成测试晶圆;所述测试晶圆与生产晶圆在基本相同工艺条件下完成高能离子工艺步骤;测量所述测试晶圆的界面缺陷、和残留表面电荷量和/或表面电压参数;基于所述界面缺陷、和残留表面电荷量和/或表面电压参数判断所述测试晶圆的离子损伤程度,以反映所述生产晶圆在所述高能离子工艺步骤形成的离子损伤。该方法能实现离子损伤的在线监测,效率高、成本低,有利于提高高能离子工艺的产品性能。 |
申请公布号 |
CN103489806A |
申请公布日期 |
2014.01.01 |
申请号 |
CN201210195969.X |
申请日期 |
2012.06.14 |
申请人 |
无锡华润上华科技有限公司 |
发明人 |
李晶 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
唐立;王忠忠 |
主权项 |
一种在线监测离子损伤的方法,其特征在于,包括以下步骤:在晶圆上生成介质层以制备形成测试晶圆;所述测试晶圆与生产晶圆在基本相同工艺条件下完成高能离子工艺步骤;测量所述测试晶圆的界面缺陷、和残留表面电荷量和/或表面电压参数;以及基于所述界面缺陷、和残留表面电荷量和/或表面电压参数判断所述测试晶圆的离子损伤程度,以反映所述生产晶圆在所述高能离子工艺步骤形成的离子损伤。 |
地址 |
214028 中国无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 |