发明名称 光阻用溶剂及使用它之狭缝涂布用组成物
摘要 本发明提供一种在不减少固体成分含量下,于狭缝涂布中可高速涂布的光阻用溶剂,以及可藉由狭缝涂布高速涂布的光阻组成物。一种光阻用溶剂,系藉由狭缝涂布法涂布于基板上的光阻组成物所用的光阻用溶剂,其特征为以该溶剂的重量为基准,10重量%以上系于20℃的黏度为1.1 cp以下的低黏度溶剂;及一种光阻组成物,包括上述光阻用溶剂、硷可溶性树脂及感光性物质。
申请公布号 TW200813623 申请公布日期 2008.03.16
申请号 TW096121732 申请日期 2007.06.15
申请人 AZ电子材料股份有限公司 发明人 拉夫葛罗坦慕勒;渥夫甘萨恩;高桥修一
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/023(2006.01);G03F7/16(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本