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发明名称
光阻用溶剂及使用它之狭缝涂布用组成物
摘要
本发明提供一种在不减少固体成分含量下,于狭缝涂布中可高速涂布的光阻用溶剂,以及可藉由狭缝涂布高速涂布的光阻组成物。一种光阻用溶剂,系藉由狭缝涂布法涂布于基板上的光阻组成物所用的光阻用溶剂,其特征为以该溶剂的重量为基准,10重量%以上系于20℃的黏度为1.1 cp以下的低黏度溶剂;及一种光阻组成物,包括上述光阻用溶剂、硷可溶性树脂及感光性物质。
申请公布号
TW200813623
申请公布日期
2008.03.16
申请号
TW096121732
申请日期
2007.06.15
申请人
AZ电子材料股份有限公司
发明人
拉夫葛罗坦慕勒;渥夫甘萨恩;高桥修一
分类号
G03F7/004(2006.01);G03F7/023(2006.01);G03F7/16(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
G03F7/004(2006.01)
代理机构
代理人
何金涂;何秋远
主权项
地址
日本
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