曝光方法及装置、维修方法、以及元件制造方法

摘要

使基板(W)曝光以形成图案之曝光装置(100),具备:相距既定间隔设置之第1、第2机台(14,16),以及配置在两机台彼此间之空间内、包含复数个分别含高刚性零件之高刚性部(24,26,28)的曝光本体部(18)。据此,即使世代更替,亦能使用前一世代之模组(高刚性部)。