半导体元件及其制造方法

摘要

一种半导体元件的制造方法,此方法是在基底上形成电晶体并在闸极导体层与源极/汲极区的表面上形成金属矽化物,然后,进行一表面处理步骤,以选择性在金属矽化物的表面形成一保护层。其后,以保护层为罩幕,去除一部份的间隙壁,以缩减间隙壁的宽度。其后,再于基底上形成一应力层。