| 发明名称 | L-亮氨酸修饰3,4-乙撑二氧噻吩单体、聚合物及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明是以3,4-二溴噻吩为原料，经六步合成反应，得到BOC保护L-亮氨酸修饰3,4-乙撑二氧噻吩单体，后以二氯甲烷为电解液，六氟化磷四丁基铵为电解质，在导电玻璃上直接沉积得到呈现深蓝色螺旋状的BOC保护L-亮氨酸修饰的聚合物，将BOC保护L-亮氨酸修饰3,4-乙撑二氧噻吩单体与三氟乙酸反应，脱保护得到L-亮氨酸修饰的3,4-乙撑二氧噻吩单体，后以二氯甲烷为电解液，六氟化磷四丁基铵为电解质，在导电玻璃上直接沉积得到L-亮氨酸修饰的聚合物。本发明的单体及其聚合物的制备方法对氨基酸修饰EDOT具有较为普遍的适用性，可用于其他氨基酸修饰EDOT及其聚合物的制备。 | ||
| 申请公布号 | CN103483355A | 申请公布日期 | 2014.01.01 |
| 申请号 | CN201310431170.0 | 申请日期 | 2013.09.22 |
| 申请人 | 江西科技师范大学 | 发明人 | 段学民;胡杜芬;张龙;徐景坤;卢宝阳;张凯鑫 |
| 分类号 | C07D495/04(2006.01)I;C08G61/12(2006.01)I;C25B3/00(2006.01)I | 主分类号 | C07D495/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人 | 施秀瑾 |
| 主权项 | 1.一种叔丁氧碳基保护L-氨基酸修饰的3,4-乙撑二氧噻吩单体、聚合物，其特征在于：其结构式分别如下： <img file="536698DEST_PATH_IMAGE001.GIF" wi="210" he="190" />，<img file="144266DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="213" he="190" />。 | ||
| 地址 | 330013 江西省南昌市下罗经济技术开发区枫林西大街605号 | ||