发明名称 基坑围护结构分层水平位移的测量装置
摘要 本实用新型提供一种基坑围护结构分层水平位移的测量装置,该测量装置包括一个相对位移测量装置和一个绝对位移测量装置,相对位移测量装置包括固定安装在第一围护结构侧面上的第一定线装置、安装在第一定线装置上的第一激光测距传感器和安装在第二围护结构上的位移反光片。绝对位移测量装置包括固定安装在第一围护结构顶面上的第二定线装置、安装在第二定线装置上的第二激光测距传感器和一个基坑外的基准反光片。第一、第二定线装置均包括一内设有球窝的基座球窝与一球头转子球面配合,球头转子与第一、第二激光测距传感器固定连接,球窝与球头转子间设有锁紧装置。本实用新型提供的测量装置结构简单、测量过程简便快捷、测量精度高。
申请公布号 CN203375934U 申请公布日期 2014.01.01
申请号 CN201320373786.2 申请日期 2013.06.26
申请人 同济大学;上海同舰建筑科技有限公司 发明人 夏才初;张平阳;曾格华
分类号 G01B11/02(2006.01)I 主分类号 G01B11/02(2006.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 雷绍宁
主权项 一种基坑围护结构分层水平位移的测量装置,所述基坑围护结构(4)包括位于基坑(1)两侧的第一围护结构(41)和第二围护结构(42),所述第一、第二围护结构(41、42)均包括圈梁(411)和围护墙(412),其特征在于:所述测量装置包括一个相对位移测量装置(21)和一个绝对位移测量装置(22),所述相对位移测量装置(21)包括固定安装在第一围护结构(41)侧面上的第一定线装置(211)、安装在所述第一定线装置(211)上的第一激光测距传感器(212)和安装在第二围护结构(42)上的位移反光片(213);所述绝对位移测量装置(22)包括固定安装在第一围护结构(41)顶面上的第二定线装置(221)、安装在第二定线装置(221)上的第二激光测距传感器(222)和一个基准反光片(223),基准反光片(223)固定设置在所述第一围护结构(41)一侧的基准点(31)处,所述第一、第二定线装置(211、221)均包括一基座(23),基座(23)内设有一球窝(231),球窝(231)与一球头转子(232)球面配合,球头转子(232)与所述第一、第二激光测距传感器(212、222)固定连接,所述球窝(231)与所述球头转子(232)之间还设有锁紧装置(24)。
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