| 摘要 |
본 발명의 과제는, 검사의 기능을 떨어뜨리지 않으면서 상이한 표면 검사를 행하는 검사 장치를 통합하여 케이스 내에 설치함으로써, 도포 현상 장치 전체에 탑재하는 기판의 처리 유닛을 늘려 기판 처리의 작업 처리량을 향상시키는 것이다. 기판인 웨이퍼(W)를 유지하는 유지부(120)와, 유지부에 유지된 웨이퍼를 회전시키는 회전 구동부와, 유지부를 수평 방향에서 이차원으로 이동시키는 이동 기구와, 유지부를 수용하는 처리 용기(110) 내에서, 상기 처리 용기의 외부와의 사이에서 웨이퍼의 전달을 행하는 전달 위치(P1)와, 웨이퍼 상에 성막된 도포막의 막두께를 측정하기 위한 프로브(156)와, 유지부에 유지된 웨이퍼의 표면을 촬상하는 촬상부(150)와, 유지부에 유지된 웨이퍼의 표면을 향해서 광을 조사하고, 연직 방향 위쪽으로 반사된 광의 광로의 방향을 수평 방향으로 설치되는 촬상부로 향하도록 광을 반사시키는 방향 변환부(157)를 구비한다. |
