| 摘要 |
Способ нанесения покрытий в вакууме, включающий возбуждение дугового разряда между рабочими электродами в импульсном режиме с ионизацией продуктов распыления материала катода, фокусирование плазменного потока импульсным магнитным полем, возбуждаемым с задержкой во времени по отношению к моменту возбуждения разряда, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытия за счет увеличения их плотности, магнитное поле возбуждают с длительностью импульсов, не меньшей времени прохождения плазменным потоком половины длины зоны воздействия магнитного поля, но не превышающей время между импульсами разряда, при задержке импульса магнитного поля, соответствующей времени пролета плазмой расстояния катод-плоскость симметрии фокусирующего магнитного поля, определяемого из соотношениягде t - время задержки импульса магнитного поля по отношению к импульсу разряда, с;L - расстояние от поверхности распыления катода до плоскости симметрии фокусирующего магнитного поля, м;V - скорость движения плазменного потока, м·с. |
