METHOD FOR PRODUCING A THREE-DIMENSIONAL CONDUCTOR TRACE STRUCTURE AND A CONDUCTOR TRACE STRUCTURE PRODUCED ACCORDING TO THIS METHOD

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Leiterbahnstruktur (4) auf einem dielektrischen Trägermaterial (1). Dabei wird das Trägermaterial (1) zunächst mit einer flächigen Beschichtung (2) versehen. In der Beschichtung (2) sind nanoskalige Partikel enthalten, die als einen wesentlichen Materialanteil Metalloxide, beispielsweise Kupferoxide enthalten, die mit einem geeigneten Reduktionsmittel beschichtet sind. Anschließend wird die Beschichtung (2) selektiv einer elektromagnetischen Strahlung eines Lasers (3) ausgesetzt. Dadurch kommt es aufgrund der selektiven Strahlungseinwirkung zu einem Versintern von in der Beschichtung (2) enthaltenen oder in situ erzeugten Partikeln, wobei sich die Leiterbahnstruktur (4) ausbildet.