发明名称 Apparatus for susceptor cleaning and substrate processing
摘要 <p>본 발명은 서셉터를 세정하는 장치 및 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로서, 공정 처리된 기판이 이송되고 난 후의 서셉터를 세정하는 장치 및 이러한 서셉터 세정 장치를 구비한 기판 처리 장치이다. 본 발명의 실시 형태는 세정 공간을 가지는 세정 하우징과, 상기 세정 하우징의 내부에 수납되며, 한 개 또는 복수개의 서셉터를 서로 이격시켜 적층시킬 수 있는 보트와, 이격 적층된 각 서셉터의 상부면, 하부면 중 어느 하나 이상에 세정 가스를 분사하는 가스 분사 수단과, 분사되는 세정 가스를 세정 챔버의 외부로 배출시키는 배출 포트를 포함한다.</p>
申请公布号 KR101344823(B1) 申请公布日期 2013.12.26
申请号 KR20120059169 申请日期 2012.06.01
申请人 发明人
分类号 H01L21/02;H01L21/67;H01L21/683 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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