| 摘要 |
1. Способ получения оксидного покрытия методом физического осаждения из паровой фазы (PVD) с по меньшей мере одним слоем, состоящим по существу из Al, Cr, Si и O, причем способ включает по меньшей мере следующие этапы:a) подготовку камеры нанесения покрытий методом PVD,b) введение в такую камеру нанесения покрытий методом PVD основ, содержащих по меньшей мере одну поверхность, подлежащую покрытию,c) осуществление процесса нанесения реакционного PVD-покрытия, причем технологический газ содержит химически активный газ, реагирующий с ионами металлов, полученными из одной или более мишеней, для осаждения по меньшей мере одного слоя, состоящего по существу из Al, Cr, Si и O, на поверхность основы,отличающийся тем, что указанная одна или более мишеней, используемых для осуществления процесса реакционного PVD-покрытия на этапе c), имеет элементный состав (в атомных процентах), представленный формулой AlCrSi, где 0,05≤y≤0,10 и 0,20≤x≤0,25, и химически активный газ является кислородом, тем самым получая покрытие с по меньшей мере одним слоем, состоящим по существу из Al, Cr, Si и O, причем, если не учитывать кислород, в этом, по меньшей мере одном слое концентрация кремния меньше, чем концентрация кремния в указанной одной или более мишенях.2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что процесс PVD-покрытия является процессом электродугового испарения.3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что технологический газ содержит по существу только кислород.4. Способ по меньшей мере по одному из пп. 1-3, отличающийся тем, что x=0,05 и y=0,25.5. Способ по меньшей мере по одному из пп. 1-3, отличающийся тем, что если не учитывать кислород, в указанном по меньшей мере одном слое концентрация кремния меньше или равна половине концентрации кремния в указанной одной или более мишеня |
