发明名称 |
一种带有均流环的环状流体分流通道 |
摘要 |
本发明涉及一种带有均流环的环状流体分流通道,包括均流环、流体入口和流体喷口,均流环安装在环状流体分流通道内;均流环为片状环,均流环将环状流体分流通道分隔成上、下结构的均流通道和分流通道;在均流环中设有均流口,均流口为均匀分布的圆弧形,圆形或矩形孔,均流口总面积为均流环总面积的20%~50%;流体入口设置在均流通道上,在分流通道中设置有流体喷口。均流通道和分流通道的上、下位置任意互换。本发明带有均流环的环状流体分流通道结构简单,施工方便,尤其适用于油页岩组合式瓦斯全循环干馏炉等工业炉,可使炉内的流体分布均匀,对提高炉子效率,节能降耗、提高产品质量和产量,降低投资成本效果显著。 |
申请公布号 |
CN103468286A |
申请公布日期 |
2013.12.25 |
申请号 |
CN201310366051.1 |
申请日期 |
2013.08.20 |
申请人 |
武汉科技大学 |
发明人 |
戴方钦;潘卢伟;张发辉;郭悦;许学成;潘妮 |
分类号 |
C10B53/06(2006.01)I;C10G1/00(2006.01)I |
主分类号 |
C10B53/06(2006.01)I |
代理机构 |
武汉华旭知识产权事务所 42214 |
代理人 |
江钊芳 |
主权项 |
一种带有均流环的环状流体分流通道,包括均流环、流体入口和流体喷口,其特征在于:所述的均流环安装在环状流体分流通道内;均流环为片状环,均流环将环状流体分流通道分隔成上、下结构的均流通道和分流通道;在均流环中设有用于使上、下结构的均流通道与分流通道相通的均流口;所述的流体入口设置在均流通道外侧任意位置,在所述的分流通道中设置有流体喷口。 |
地址 |
430081 湖北省武汉市青山区和平大道947号 |