发明名称 真空膜浇注系统和真空膜浇注方法
摘要 本发明提供一种真空膜浇注系统和真空膜浇注方法,该真空膜浇注系统包括:模具,具有冒口和浇注口;真空膜,所述真空膜包覆在所述模具的周围形成真空空间;真空泵,通过真空管道连接于所述模具的抽真空口;和混料设备,通过注料管连接于所述模具的浇注口。采用本发明的真空膜浇注系统进行浇注,在常压下无需特殊的真空设备就可进行浇注,所以可不受设备和空间制约,具有灵活的可操作性;通过由真空薄膜代替真空浇注罐,所需成本较低,简便易行,适应面广泛,适应于现场浇注、小件产品生产、试验型浇注等。
申请公布号 CN103465422A 申请公布日期 2013.12.25
申请号 CN201310397944.2 申请日期 2013.09.04
申请人 北京电力设备总厂;中广核工程有限公司 发明人 张烈;胡婷婷;金立东;赵悦;肖磊;张微;靳智鹏;吕杰;林文生;刘海燕;徐永永;马庆涛
分类号 B29C39/42(2006.01)I;B29C39/02(2006.01)I 主分类号 B29C39/42(2006.01)I
代理机构 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 代理人 刘春成;张向琨
主权项 一种真空膜浇注系统,其特征在于,包括:模具,具有冒口和浇注口;真空膜,所述真空膜包覆在所述模具的周围形成真空空间;真空泵,通过真空管道连接于所述模具的抽真空口;和混料设备,通过注料管连接于所述模具的浇注口。
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