发明名称 | 压电薄膜元件及具备其的压电薄膜设备 | ||
摘要 | 本发明提供压电特性和生产率优异的压电薄膜元件以及使用了其的压电薄膜设备。所述压电薄膜元件为在基板上设有由通式(NaxKyLiz)NbO3(0≤x≤1,0≤y≤1,0≤z≤0.2,x+y+z=1)表示的压电薄膜的压电薄膜元件,其特征在于,所述压电薄膜为,具有假立方晶、正方晶或斜方晶中的任一种的晶体结构,或具有假立方晶、正方晶或斜方晶中的至少二种共存的晶体结构,这些晶体结构为取向于(001)方向的(001)取向晶粒和取向于(111)方向的(111)取向晶粒共存的结构,且所述晶粒所具有的晶轴中的至少一个晶轴与所述基板表面的法线形成的角处于0°至10°的范围内。 | ||
申请公布号 | CN101924179B | 申请公布日期 | 2013.12.25 |
申请号 | CN201010205611.1 | 申请日期 | 2010.06.10 |
申请人 | 日立电线株式会社 | 发明人 | 末永和史;柴田宪治;佐藤秀树;野本明 |
分类号 | H01L41/18(2006.01)I | 主分类号 | H01L41/18(2006.01)I |
代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 钟晶 |
主权项 | 一种压电薄膜元件,其为在基板上层合了由通式(NaxKyLiz)NbO3表示的压电薄膜的压电薄膜元件,并且,0≦x≦1,0≦y≦1,0≦z≦0.2,x+y+z=1,其特征在于,所述压电薄膜为:具有假立方晶、正方晶或斜方晶中的任一种的晶体结构,或具有假立方晶、正方晶或斜方晶中的至少二种共存的晶体结构,这些晶体结构为优先取向于(001)方向的(001)优先取向晶粒和优先取向于(111)方向的(111)优先取向晶粒共存的结构,且所述晶粒所具有的晶轴中的至少一个晶轴与所述基板表面的法线形成的角处于0°至10°的范围内。 | ||
地址 | 日本东京都 |