新型多晶硅还原炉喷嘴

摘要

本发明是一种新型多晶硅还原炉喷嘴，主要通过在还原炉底盘进气口设置该喷嘴来调节炉内气体分布，能满足硅芯底部到横梁的进气需求，保持炉内气体分布均匀，在加快沉积速度的同时生成优质的多晶硅。该新型多晶硅还原炉喷嘴主要由喷嘴芯体、底盘、分布罩组成。所述喷嘴芯体通过焊接或螺纹安装在底盘的进气口上，所述分布罩安装在喷嘴芯体外侧上端。该喷嘴能实现对还原炉内进料气体的均匀分布，以及有效控制气体停留时间与流速，提高多晶硅的生长质量和生长速度。

主权项

一种新型多晶硅还原炉喷嘴，包括喷嘴芯体（1）、底盘（2）和分布罩（3），其特征在于：所述喷嘴芯体（1）通过焊接或螺纹安装在底盘（2）的进气口上，所述喷嘴芯体（1）中心设有进气腔（1‑1），所述分布罩（3）通过螺纹或焊接安装在喷嘴芯体（1）外侧上端，所述分布罩（3）中心开有1个主喷气孔（3‑2）。