发明名称 |
一种集成金属纳米腔的表面等离激元透镜 |
摘要 |
本发明公开了一种集成金属纳米腔的表面等离激元透镜。本发明的表面等离激元透镜包括:衬底、金膜、纳米缝圆环和金属纳米腔;其中,金膜镀在衬底的上表面;纳米缝圆环位于金膜上并穿透金膜;以及金属纳米腔为矩形浅槽,位于纳米缝圆环的中心,从金膜的上表面开始刻到金膜内一定深度但没有刻透。本发明的表面等离激元透镜在金属纳米腔共振的情况下,可以将光场局域到小至6.0×10-3λ02(λ0是入射光的自由空间波长)的一个光斑,同时透镜中心的光强相比无腔的情况增强了5500倍。光源避免了径向偏振光的使用,也不要求光束中心和透镜中心的精确对准,应用范围更大,使用更方便。而且,本发明的表面等离激元透镜便于加工,易于高质量的制备。 |
申请公布号 |
CN102707342B |
申请公布日期 |
2013.12.25 |
申请号 |
CN201210211252.X |
申请日期 |
2012.06.20 |
申请人 |
北京大学 |
发明人 |
李智;岳嵩;陈建军;龚旗煌 |
分类号 |
G02B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B3/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 |
代理人 |
张肖琪 |
主权项 |
一种集成金属纳米腔的表面等离激元透镜,其特征在于,所述表面等离激元透镜包括:衬底(1)、金膜(2)、纳米缝圆环(3)和金属纳米腔(4);其中,金膜(2)镀在衬底(1)的上表面;纳米缝圆环(3)位于金膜(2)上并穿透金膜;以及金属纳米腔(4)为矩形浅槽,位于纳米缝圆环(3)的中心,从金膜(2)的上表面开始刻到金膜内一定深度但没有刻透,所述一定深度是指从金属纳米腔的底部到衬底的上表面剩余的金膜的厚度仍能远大于光的穿透深度;金属纳米腔的长度不小于180nm。 |
地址 |
100871 北京市海淀区颐和园路5号 |