发明名称 |
形成薄膜图案的方法以及具有该薄膜图案的平板显示器 |
摘要 |
本发明提供一种形成薄膜图案的方法和具有该薄膜图案的平板显示器,该薄膜图案能够使形成微图案成为可能。形成薄膜图案的方法包括:在基板上顺序形成第一到第三薄膜层,在第三薄膜层上形成第一光刻胶图案,利用第一光刻胶图案作为掩模构图第二和第三薄膜层以形成具有彼此不同线宽的第一和第二薄膜掩模图案,在位于第一薄膜层和第二薄膜掩模图案之间的第一和第二薄膜掩模图案彼此不重叠的区域形成第二光刻胶图案,去除第一和第二薄膜掩模图案,以及通过利用第二光刻胶图案作为掩模构图第一薄膜层以形成薄膜图案。 |
申请公布号 |
CN102280369B |
申请公布日期 |
2013.12.25 |
申请号 |
CN201110154262.X |
申请日期 |
2011.06.02 |
申请人 |
乐金显示有限公司 |
发明人 |
金正五;李正一;金江一;方政镐;白正善 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;钟强 |
主权项 |
一种形成薄膜图案的方法,包括以下步骤:在基板上顺序形成第一到第三薄膜层;在所述第三薄膜层上形成第一光刻胶图案;利用所述第一光刻胶图案作为掩模构图第二和第三薄膜层,以形成具有彼此不同线宽的第一和第二薄膜掩模图案;在位于第一薄膜层和第二薄膜掩模图案之间的所述第一和第二薄膜掩模图案彼此不重叠的区域形成第二光刻胶图案;去除所述第一和第二薄膜掩模图案;以及利用所述第二光刻胶图案作为掩模构图所述第一薄膜层,以形成薄膜图案,其中第一薄膜掩模图案的线宽与在第一薄膜掩模图案两侧的第二光刻胶图案的线宽之和与第二薄膜掩模图案的线宽相同以及所述第二薄膜层由无机绝缘膜或柱状晶群材料形成。 |
地址 |
韩国首尔 |