| 发明名称 | 阻气叠层膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种阻气叠层膜及其制造方法。所述阻气叠层膜在基体材料膜的至少一面形成多层无机薄膜层而得到，所述无机薄膜层中所述基体材料膜侧的第一层到第n层(n为1以上的整数)是通过非等离子体成膜法成膜而得到的，在其上相接成膜的第n＋1层是通过对向靶溅射法成膜而得到的。所述阻气叠层膜的制造方法是在基体材料膜的至少一面形成一层或多层无机薄膜层的阻气叠层膜的制造方法，该方法包括：通过非等离子体成膜法成膜所述无机薄膜层中所述基体材料膜侧的第一层到第n层(n为1以上的整数)，通过对向靶溅射法成膜在其上相接的第n＋1层，该方法对于待成膜无机薄膜层的基体材料膜、特别是对于树脂膜的损伤少，可形成致密性高的无机薄膜层，且阻气性高、生产性优异。 | ||
| 申请公布号 | CN103476581A | 申请公布日期 | 2013.12.25 |
| 申请号 | CN201280016832.1 | 申请日期 | 2012.03.29 |
| 申请人 | 三菱树脂株式会社 | 发明人 | 天内英隆;宫崎亮 |
| 分类号 | B32B9/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | B32B9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 张平元 |
| 主权项 | 一种阻气叠层膜，其是在基体材料膜的至少一面形成多层无机薄膜层而成的，其中，所述无机薄膜层中所述基体材料膜侧的第一层到第n层是通过非等离子体成膜法成膜而得到的，在其上相接成膜的第n＋1层是通过对向靶溅射法成膜而得到的，其中n为1以上的整数。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||