| 发明名称 | 一种制造光学系统的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光学系统(OS)的计算方法，该光学系统(OS)用函数(OF)标识，该光学系统(OS)包括用第一方程定义(EF1)的第一部分(F1)和用第二方程定义(EF2)的第二部分(F2)，该方法包括步骤：-产生步骤(GEN)，其中用虚拟光学系统(VOS)产生虚拟函数(VOF)；-修正步骤(MOD)，其中虚拟函数(VOF)被修正以获得函数(OF)；-计算步骤(CAL)，其中，基于函数(OF)以及第一方程(EF1)计算第二方程(EF2)。本发明还涉及一种光学系统(OS)的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101243351B | 申请公布日期 | 2013.12.25 |
| 申请号 | CN200680029513.9 | 申请日期 | 2006.08.01 |
| 申请人 | 埃西勒国际通用光学公司 | 发明人 | 帕斯卡尔·阿利翁;吉勒·勒索;让-皮埃尔·肖沃;德尼·马聚埃 |
| 分类号 | G02C7/02(2006.01)I;G02B3/10(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I | 主分类号 | G02C7/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 罗朋 |
| 主权项 | 一种建立光学系统(OS)的方法，其中，该光学系统(OS)用函数(OF)标识，其特征在于，所述光学系统(OS)包括用第一方程(EF1)定义的第一部分(F1)，EF1(x，y，z)定义了所述第一部分(F1)在由坐标x，y和z定义的空间位置上的光电几何特性，以及用第二方程(EF2)定义的第二部分(F2)，EF2(x，y，z)定义了所述第二部分(F2)的光电几何特性，其中所述第一部分(F1)和所述第二部分(F2)是所述光学系统(OS)的面或者体，该方法包括以下步骤： ‑产生步骤(GEN)，其中，通过计算机计算和产生的虚拟光学系统(VOS)被用来产生虚拟函数(VOF)； ‑修正步骤(MOD)，其中，修正所述虚拟函数(VOF)以获得所述函数(OF)； ‑计算步骤(CAL)，其中，用于通过所述函数(OF)和所述第一方程(EF1)来计算用于加工所述第二部分的所述第二方程(EF2)， 其中，所述光学系统(OS)的所述函数(OF)被定义为所述光学系统(OS)的所述光电几何特性的函数h，其中，OF＝h(EF1(x，y，z)，EF2(x，y，z)，n(x，y，z))，n是光学系数。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||