衬底处理设备和器件制造方法

摘要

本发明提供一种衬底处理设备和器件制造方法，该衬底处理设备包括光刻设备，该光刻设备包括：用于提供辐射投影束的照射系统，用于在投影束的截面赋予图案的单独可控元件阵列，用于把已构图束投影到衬底目标部分的投影系统。该处理设备也包括设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置，和设置成从衬底供应装置传送每个输出的衬底连续段并经过投影系统，以使得投影系统能够沿着衬底的每个连续段把已构图束投影到一串目标部分上的衬底传送系统。在某些实施例中，从卷提供衬底的长段，但可选择地可以提供一串分立的薄片。

主权项

一种衬底处理设备，包括：光刻设备，该光刻设备包括：用于提供辐射投影束的照射系统；用于给投影束的截面赋予图案以形成已构图束的单独可控元件阵列；和用于把已构图束投影到衬底目标部分上的投影系统；设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置；和设置成从衬底供应装置传送每个输出的衬底连续段并经过投影系统，使得投影系统能够沿着衬底的每个连续段把已构图束投影到一串目标部分上的衬底传送系统，其中，衬底供应装置具有衬底的相邻层，其中在衬底的相邻层之间具有一层分离材料，并且光刻设备还包括检测系统，所述检测系统布置成检测衬底上的使得光刻设备能够定位衬底的对准标记。