发明名称 |
用于小型成像装置的磁体结构 |
摘要 |
本发明公开了一种可挠式光学膜及其制作方法。所述可挠式光学膜包含:二氧化钛及硅胶;其中二氧化钛与硅胶是以0.01至20%的重量比例混合。此可挠式光学膜具有良好的弹性,因此不会因为曲折即形成折痕。同时,相较于传统的光学膜,本发明的可挠性光学膜应用于有机发光二极管背光或照明系统中具有较优的光学性质。当另外加入荧光粉或磷光粉,则具有更良好的光学性质与光演色性。 |
申请公布号 |
CN102334058B |
申请公布日期 |
2013.12.25 |
申请号 |
CN201180000956.6 |
申请日期 |
2011.07.20 |
申请人 |
香港应用科技研究院有限公司 |
发明人 |
范建明;郑国星;关启昌 |
分类号 |
G02B7/02(2006.01)I;G02B7/04(2006.01)I;H02K33/02(2006.01)I;H04N5/225(2006.01)I |
主分类号 |
G02B7/02(2006.01)I |
代理机构 |
深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 |
代理人 |
江耀纯 |
主权项 |
一种装置,包括:一个透镜组件,其包括一个或多个透镜;一个图像感应器,用于接受来自所述透镜组件的光线;一个致动器,用于调整所述透镜的位置,所述致动器包括至少一个磁体和一个线圈以产生电磁力作用在所述透镜组件上,其中所述至少一个磁体的磁极是与所述透镜组件的光轴为镜像对称的,其中所述至少一个磁体的几何平面和所述线圈的几何平面,垂直于所述光轴,其中所述至少一个磁体的所述磁极的对齐直线垂直于所述光轴;所述图像感应器包括一个有效成像区域和一个至少部分地围住有效成像区域的无效成像区域,所述致动器的一部分安装和/或连接到图像感应器的所述无效成像区域上,所述图像感应器的表面物理支撑住所述致动器,以便使所述致动器的俯视面积接近或小于图像感应器的俯视面积。 |
地址 |
中国香港新界沙田香港科学园科技大道西二号生物资讯中心3楼 |