发明名称 | 一种掩膜版及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种掩膜版及其制备方法,该掩膜版包括本体,还包括:覆盖于本体的表面且能降低有机凝结物粘附力的包含疏油材料的膜层。与传统的掩膜版相比,本发明实施例提供的掩膜版,在掩膜版本体上覆盖了一层疏油材料,由于有机凝结物在该疏油材料的表面的接触角较大、粘附力较低,能有效降低有机凝结物粘附于掩膜版表面的可能性,从而减轻了在曝光过程中光刻胶中的有机溶剂等有机挥发物对掩膜版污染的问题。 | ||
申请公布号 | CN103472673A | 申请公布日期 | 2013.12.25 |
申请号 | CN201310421535.1 | 申请日期 | 2013.09.16 |
申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 孙志义;张然 |
分类号 | G03F1/48(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/48(2012.01)I |
代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
主权项 | 一种掩膜版,包括本体,其特征在于,还包括:覆盖于所述本体的表面且能降低有机凝结物粘附力的包含疏油材料的膜层。 | ||
地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |