| 发明名称 | 阻气性膜 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种具有高阻气性，且阻气性的重复再现性优异的阻气性膜。该阻气性膜是在高分子基材的至少一个面上依次层合了以下的[A]层和[B]层而形成的，[A]层：铅笔硬度为H以上且表面自由能为45mN/m以下的交联树脂层，[B]层：厚度为10～1000nm的含硅无机层。 | ||
| 申请公布号 | CN103476579A | 申请公布日期 | 2013.12.25 |
| 申请号 | CN201280015972.7 | 申请日期 | 2012.03.29 |
| 申请人 | 东丽株式会社 | 发明人 | 上林浩行;冢村裕介;渡边修 |
| 分类号 | B32B9/00(2006.01)I | 主分类号 | B32B9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 田欣;段承恩 |
| 主权项 | 阻气性膜，在高分子基材的至少一个面上依次层合了以下的[A]层和[B]层，[A]层：铅笔硬度为Ｈ以上且表面自由能为45mN/m以下的交联树脂层，[B]层：厚度为10～1000nm的含硅无机层。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||