| 发明名称 | 碳化硅基抗反射涂层 | ||
| 摘要 | 本发明涉及包含非晶碳化硅基膜的抗反射涂层，该膜进一步含有氢原子，以及任选地进一步含有氧和/或氮，该膜具有约2.3～2.7的有效折射率(n)以及在630nm波长处少于0.01的消光系数(k)。本发明也涉及制备抗反射涂层的方法以及包含抗反射涂层的太阳能电池。 | ||
| 申请公布号 | CN102171384B | 申请公布日期 | 2013.12.25 |
| 申请号 | CN200980128859.8 | 申请日期 | 2009.05.28 |
| 申请人 | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 | 发明人 | 塞巴斯蒂安·艾伦;约瑟夫·阿维德;亚历山大·戈蒙德;迈克尔·戴维斯 |
| 分类号 | C23C30/00(2006.01)I;C01B31/36(2006.01)I;C23C16/30(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I;C23C18/12(2006.01)I;H01L31/0216(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;C09D5/32(2006.01)I | 主分类号 | C23C30/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明;王申 |
| 主权项 | 一种包含非晶碳化硅基膜的抗反射涂层，其中所述膜进一步含有氢原子，所述膜具有2.3～2.7的有效折射率(n)以及在630nm波长处小于0.01的消光系数(k)。 | ||
| 地址 | 法国巴黎市 | ||