发明名称 Chamber cover for spin treating apparatus
摘要 <p>본 발명은 기판을 회전시키면서 처리액을 표면에 분사하여 세정 등의 처리를 행하는 스핀처리장치에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 기판을 회전시키면서 처리액을 기판의 표면에 분사하여 기판을 처리하기 위한 기판처리장치의 챔버 상부에 설치되고 챔버를 개폐 작동시키도록 설치되는 챔버커버체를 설치하여 이루어지되, 상기 챔버커버체는 케이싱의 상부에 개폐구가 형성된 상부커버를 결합하고 개폐구의 상부엔 개폐용 셔터를 케이싱의 측방에 설치된 실린더에 의하여 승강축이 승하강함에 따라 개폐가 가능하게 설치하며, 상부커버의 개폐구와 인접한 위치엔 드레인을 각각 마련하여 구성이 이루어지는 스핀처리장치용 챔버커버를 제공한다.</p>
申请公布号 KR101344732(B1) 申请公布日期 2013.12.24
申请号 KR20110137865 申请日期 2011.12.20
申请人 发明人
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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