| 摘要 |
<p>Vorrichtung zur galvanischen Beschichtung von mindestens einer Oberfläche (2, 3) mindestens eines Substrates (1), insbesondere einer Solarzelle (1a), mit einem Beschichtungsbad (13), das eine mit elektrolytischer Beschichtungsflüssigkeit (14) gefüllte Beschichtungswanne (12) aufweist, mit einer Transporteinrichtung (15) zum Durchführen des Substrates durch das Beschichtungsbad (13), mit einem Lichtquellenschaltkreis (60) mit mindestens einer Lichtquelle (64) zur Bestrahlung des Substrates (1) und mit einem Gleichrichterschaltkreis (50) für das Substrat (1) mit Anoden (54), dadurch gekennzeichnet, dass Mittel zur Erzeugung von synchronen Stromimpulsen und Lichtimpulsen vorgesehen sind, wobei in den Impulspausen zwischen den Stromimpulsen die Bestrahlung des Substrates (1) unterbrochen ist.</p> |
