| 摘要 |
Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci przeznaczonej do czyszczenia powierzchni podlozy w procesach rozpylania katodowego w komorze prózniowej przed nanoszeniem na nie w tej komorze powlok, polegajacy na wywolaniu w gazie szlachetnym lub mieszaninie gazów szlachetnych, wprowadzanych do komory po uprzednim usunieciu z niej powietrza, wyladowan jarzeniowych o gestosci pradu 1-20 A/m2 przy uzyciu jako zródla zasilania zródla pradowego generujacego przebiegi pradowe bipolarne lub unipolarne o polarnosci ujemnej, charakteryzuje sie tym, ze gaz szlachetny lub mieszanine gazów szlachetnych podaje sie do komory impulsowo, w czasie 1-280 ms, kazdorazowo w ilosci (0,1-1,5)x10-6 mol/dm3 komory prózniowej do zaplonu plazmy, przy czestotliwosci impulsów podawania gazu szlachetnego lub mieszaniny gazów szlachetnych 1-1,7 Hz, przy ciaglym i równoczesnym usuwaniu atmosfery obróbczej dla obnizania cisnienia i jednoczesnie wywolywania zaniku plazmy. |
