发明名称 具有金属扩散区的第III-V族金氧半导体场效电晶体(MOSFET)
摘要 一种第III-V族MOSFET,其包括与量子井区直接接触的金属源极区与汲极区。此种装置包含基板、于该基板上形成之III-V量子井层、于该量子井层上形成之III-V阻障层、于该阻障层上形成之闸极介电层、于该闸极介电层上形成之闸电极、与该量子井层和该阻障层二者相邻形成之第一金属侧壁内衬、与该量子井层和该阻障层二者相邻形成之第二金属侧壁内衬、与该第一金属侧壁内衬相邻之金属源极区,以及与该第二金属侧壁内衬相邻之金属汲极区。
申请公布号 TWI420667 申请公布日期 2013.12.21
申请号 TW098142292 申请日期 2009.12.10
申请人 英特尔股份有限公司 美国 发明人 马吉 普瑞斯韩特;高尔 尼堤;科维斯尼柯夫 瑟吉;蔡 威尔曼;拉多撒福杰维克 马可;皮拉瑞斯堤 瑞维;贾吉尼 帕罗
分类号 H01L29/78;H01L29/40 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 美国