发明名称 |
具有金属扩散区的第III-V族金氧半导体场效电晶体(MOSFET) |
摘要 |
一种第III-V族MOSFET,其包括与量子井区直接接触的金属源极区与汲极区。此种装置包含基板、于该基板上形成之III-V量子井层、于该量子井层上形成之III-V阻障层、于该阻障层上形成之闸极介电层、于该闸极介电层上形成之闸电极、与该量子井层和该阻障层二者相邻形成之第一金属侧壁内衬、与该量子井层和该阻障层二者相邻形成之第二金属侧壁内衬、与该第一金属侧壁内衬相邻之金属源极区,以及与该第二金属侧壁内衬相邻之金属汲极区。 |
申请公布号 |
TWI420667 |
申请公布日期 |
2013.12.21 |
申请号 |
TW098142292 |
申请日期 |
2009.12.10 |
申请人 |
英特尔股份有限公司 美国 |
发明人 |
马吉 普瑞斯韩特;高尔 尼堤;科维斯尼柯夫 瑟吉;蔡 威尔曼;拉多撒福杰维克 马可;皮拉瑞斯堤 瑞维;贾吉尼 帕罗 |
分类号 |
H01L29/78;H01L29/40 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |