钽溅镀靶

摘要

一种钽溅镀靶，其特征在于，含有1massppm以上、100massppm以下之钨作为必要成分，不计钨及气体成分之纯度在99.998%以上。如上述之钽溅镀靶，其进一步含有0～100massppm(惟，不包括0massppm)之钼及/或铌，钨、钼、铌的合计含量在1massppm以上、150massppm以下，不计钨、钼、铌及气体成分之纯度在99.998%以上。得到具备均一微细之组织、电浆稳定、膜之均匀性(uniformity)优异之高纯度钽溅镀靶。