发明名称 矽基材之蚀刻液及蚀刻方法
摘要 一种矽基材之蚀刻液及蚀刻方法,适用于在一矽基材上形成至少一结构化表面,其系在一制程温度下将该矽基材浸入一蚀刻液中停留一制程时间后取出,于该蚀刻液中包括了将一水溶性硷性物质以及一界面活性剂溶解于水中所构成之硷性溶液。其中,该界面活性剂系包括有至少一种多醣体物质,且该界面活性剂于该蚀刻液中的重量百分比浓度系小于2000ppm。
申请公布号 TWI419958 申请公布日期 2013.12.21
申请号 TW099130592 申请日期 2010.09.10
申请人 曾柔玮 新竹市柴桥路59巷21号 发明人 曾柔玮
分类号 C09K13/02;H01L21/306 主分类号 C09K13/02
代理机构 代理人 陈明哲 台北市内湖区旧宗路2段181巷6号4楼
主权项
地址 新竹市柴桥路59巷21号