画素结构及其制造方法

摘要

一种画素结构的制造方法。首先，提供一具有多个画素区域的基板。接着，于基板上形成共用电极，其环绕于各画素区域的周围。然后，于共用电极上形成储存电容电极。继之，形成第一保护层，覆盖储存电容电极与共用电极。再来，于各画素区域中形成扫描线以及闸极。接着，形成闸绝缘层以及闸绝缘层上的半导体层。再来，于各画素区域中形成资料线、源极与汲极。接着，于基板上形成第二保护层，并于汲极上方的第二保护层中形成接触窗开口。然后，于各画素区域中形成画素电极，而画素电极是藉由接触窗开口与汲极电性连接。