抛光氮化铝之方法

摘要

本发明提供一种抛光氮化铝基板之方法。该方法包含以包含研磨剂(例如，胶态二氧化矽)、氧化剂(例如，过氧化氢)及水性载剂之硷性水性抛光组合物研磨氮化铝基板之表面。本发明之方法提供相较于在抛光液中不使用氧化剂之知方法有实质改良之抛光速率。