发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Chipkapselung, Verfahren zur Herstellung einer Wafer-Level-Kapselung, Chipkapselung und Wafer-Level-Kapselung
摘要 Es wird ein Verfahren (100) zur Herstellung einer Chipkapselung bereitgestellt. Das Verfahren (100) weist auf das Bilden (110) einer Schicht über einem Träger; Bilden (120) von weiterem Trägermaterial über der Schicht; selektives Entfernen (130) eines oder mehrerer Teile des weiteren Trägermaterials, um dadurch einen oder mehrere Teile der Schicht von dem weiteren Trägermaterial loszulösen; und Kleben (140) eines Chips, der eine oder mehrere Kontaktstellen aufweist, an den Träger über die Schicht.
申请公布号 DE102013106271(A1) 申请公布日期 2013.12.19
申请号 DE201310106271 申请日期 2013.06.17
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 MEYER-BERG, GEORG
分类号 H01L21/56;H01L21/60;H01L23/06;H01L23/28 主分类号 H01L21/56
代理机构 代理人
主权项
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