| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein Flüssigphasen-Verfahren zur Herstellung Indiumoxid-haltiger Schichten, bei dem eine Zusammensetzung enthaltend mindestens ein Indiumoxoalkoxid der generischen Formel MxOy(OR)z[O(R’O)eH]aXbYc[R’’OH]d mit x = 3–25, y = 1–10, z = 3–50, a = 0–25, b = 0–20, c = 1–20, d = 0–25, e = 0, 1, M = In, R, R’, R’’= organischer Rest, X = F, Cl, Br, I, und Y = -NO3, -NO2, wobei b + c = 1–20 ist und mindestens ein Lösemittel auf ein Substrat aufgebracht, ggf. getrocknet, und in eine Indiumoxid-haltige Schicht konvertiert wird, die Indiumoxoalkoxide der genannten generischen Formel, sie enthaltende Beschichtungszusammensetzungen, die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren herstellbaren Schichten und ihre Verwendung.</p> |
