发明名称 PATTERN FORMING APPARATUS, MARK DETECTING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, PATTERN FORMING METHOD, EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 웨이퍼 스테이지 (WST) 가 Y 축 방향으로 직선적으로 이동하는 동안, 다점 AF 계 (90a, 90b) 에 의해 X 축 방향에 소정 간격으로 설정된 복수의 검출점에 있어서의 웨이퍼 (W) 표면의 면위치 정보가 검출됨과 함께, X 축 방향을 따라 일렬로 배열된 복수의 얼라인먼트계 (AL1, AL2∼ AL2) 에 의해 웨이퍼 (W) 상의 서로 상이한 위치의 마크가 각각 검출된다. 즉, 웨이퍼 스테이지 (웨이퍼) 가 다점 AF 계의 복수의 검출점의 배열과, 복수의 얼라인먼트계를 직선적으로 통과하는 것만으로, 복수의 검출점에 있어서의 웨이퍼 표면의 면위치 정보의 검출과 웨이퍼 상의 서로 상이한 위치의 마크의 검출이 종료되므로, 마크의 검출 동작과 면위치 정보 (포커스 정보) 의 검출 동작을 무관하게 실시하는 경우에 비해 스루풋을 향상시킬 수 있다.
申请公布号 KR101342765(B1) 申请公布日期 2013.12.19
申请号 KR20137011450 申请日期 2007.02.21
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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