一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统

摘要

一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统，主要用于光刻机系统中。该系统包括掩膜台、驱动电机和机架；驱动电机为动铁式磁浮平面电机，驱动电机的永磁体阵列和掩膜台连接在一起，组成了该掩膜台系统的动子部分；驱动电机的线圈阵列和机架连接在一起，组成了该掩膜台系统的定子部分；驱动电机可实现该掩膜台系统的六自由度运动，平面光栅尺则作为该掩膜台系统的测量传感器用于掩膜台的位置反馈测量。粗精动一体磁浮掩膜台在减小了掩模台体积的同时既提高了掩模台的速度、加速度和控制带宽，又满足了高运动精度和定位精度的要求，进而提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率。

主权项

一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统，其特征在于：该系统包括掩膜台台体（1）、驱动电机和机架（2）；所述的掩膜台台体（1）位于该掩膜台系统的中部，所述的驱动电机采用两组，两组驱动电机对称布置在掩膜台台体（1）沿X方向的两个侧面上，驱动电机的永磁体阵列（4）和掩膜台台体（1）连接在一起，构成该掩膜台系统的动子部分，两组驱动电机的线圈阵列和机架（2）连接在一起，构成该掩膜台系统的定子部分，每个驱动电机在X方向、Y方向和Z方向的三个方向出力； 所述的驱动电机的线圈阵列（5）的线圈采用叠层正交线圈，多个叠层正交线圈沿线性方向依次排列；或线圈阵列的线圈采用单层绕制线圈，多个单层线圈沿线性方向依次排列，且相邻两个线圈的绕线方向相互垂直；线圈阵列（5）中的每个线圈由通电线圈（9）和线圈骨架（10）组成，整个线圈固定在机架（2）上。