| 发明名称 | 阵列基板和显示装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种阵列基板和显示装置，属于显示技术领域。所述阵列基板的有源层由至少两个金属氧化物半导体层组成，其中，靠近栅绝缘层的第一金属氧化物半导体层的迁移率大于靠近源漏金属层的第二金属氧化物半导体层的迁移率。通过本实用新型的技术方案，能够制备性能良好、稳定且具有高迁移率的有源层。 | ||
| 申请公布号 | CN203351574U | 申请公布日期 | 2013.12.18 |
| 申请号 | CN201320451996.9 | 申请日期 | 2013.07.26 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 闫梁臣 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;黄灿 |
| 主权项 | 一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板的有源层由至少两个金属氧化物半导体层组成，其中，靠近栅绝缘层的第一金属氧化物半导体层的迁移率大于靠近源漏金属层的第二金属氧化物半导体层的迁移率。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||