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<p>회전 기판 지지부를 이용하는 기판 프로세싱 장치 및 방법이 개시된다. 일 실시예에서, 기판 프로세싱 장치가 챔버내에 배치된 기판 지지부 조립체를 구비한다. 기판 지지부 조립체는 지지 표면 및 그 지지 표면 아래에 배치된 히터를 구비하는 기판 지지부를 포함한다. 샤프트가 기판 지지부에 결합되고, 모터가 로터를 통해 샤프트에 결합되어 기판 지지부로 회전 운동을 제공한다. 시일 블록이 로터 주위로 제공되어 그 사이에 시일을 형성한다. 시일 블록은 시일 블록과 샤프트 사이의 경계를 따라 배치되는 하나 이상의 채널 및 하나 이상의 시일을 구비한다. 포트가 각 채널에 결합되어 펌프로 연결시킨다. 승강 기구가 샤프트에 결합되어 기판 지지부를 상승 및 하강시킨다.</p> |
